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オゾン発生機/オゾン発生装置

半導体/ファインケミカル FA型シリーズ

半導体/ファインケミカル FA型シリーズ

構造・特徴

当社のFA型オゾン発生機は、放電部に石英ガラス2重管方式を採用しており、金属分がないため吐出されるオゾンガスは分析機器の測定下限限界を下回るほどのクリーン度を有しています。

重金属イオン分析結果データ
単位ng/m3
元素 Al Ti Cr Mn Fe Co Ni Cu Zn
測定値 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5 <0.5

※分析メーカーICP-MS 検出下限1.0ng/m3


オゾン発生機 BAシリーズ 空気仕様

オゾン発生機 BAシリーズ 空気仕様

構造・特徴

一般産業向け空気原料の水冷型オゾン発生機です。
高品位放電管の採用により高い信頼性を得ました。多彩な警報システムに加え液晶タッチパネルの採用により保護システムがいっそう充実しました。遠隔操作やオプションにより濃度計等との連動によりフィードバック制御も可能です。

オゾン発生量 80~1300 g/Hr
オゾンガス濃度 25~45 g/Nm3

オゾン発生機 BXシリーズ 酸素仕様

オゾン発生機 BXシリーズ 酸素仕様

構造・特徴

BA型を酸素原料で使用する水冷型オゾン発生機です。
原料ガスに酸素を使用することで同じサイズの装置でオゾンガスの発生量濃度がBA型の2倍になります。

オゾン発生量 160~2600 g/Hr
オゾンガス濃度 50~120 g/Nm3

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実験用オゾン発生機

オゾン発生機 FASシリーズ

オゾン発生機 FASシリーズ

構造・特徴

酸素ガスを原料として180g/Nm3の高濃度のオゾンガスを供給できます。小型石英2重管を用いた水冷型オゾン発生機です。


オゾン発生機 ZRシリーズ

オゾン発生機 NZRシリーズ

構造・特徴

セラミックの沿面放電部を持った空冷型オゾン発生機です。
酸素ガスを原料として3~6g/Hrのオゾンガスを得られます。

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オゾン水製造機

一般産業用オゾン水製造装置 ZWシリーズ

一般産業用オゾン水製造装置 ZWシリーズ

構造・特徴

オゾンガス発生装置にガス溶解部を組み合わせオゾン水を製造します。
必要なオゾン水濃度(1~20ppm)とオゾン水の流量により装置を組み合わせます。
要求仕様により溶解方法は、エジェクター、ガス溶解ポンプ、ガス溶解膜など適切方法を選定します。

オゾン水濃度 1~20ppm
オゾン水流量 5~200 L/min

半導体産業向けオゾン水製造装置 FZWシリーズ

半導体産業向けオゾン水製造装置 DWシリーズ

構造・特徴

石英2重管より作られるクリーンなオゾンガス超純水へ溶解させることによりクリーンなオゾン水を供給します。
オゾンガスの溶解には、エジェクター(20ppmまで)やガス溶解膜(20ppm以上)を利用します。

オゾン水濃度 5~90ppm
オゾン水流量 2~40 L/min

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高濃度オゾンガス用濃度計

オゾン濃度計 ZM-オゾンモニター

オゾン濃度計 OZT

構造・特徴

オゾンガスが特定波長の紫外線光を吸収する性質を利用し、光吸収セルに紫外線光を通過させ、オゾン濃度を連続に直読表示できます。

品番 OZT-50/100/150/200/300
測定レンジ 0~300g/m3(N)

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オゾンガス分解装置

排気するオゾンガスを分解し酸素ガスとして排出します。
オゾン分解触媒、活性炭を使用しますので電力等不要です。
排気するオゾンガスの濃度、風量により設計します。
オゾンガス濃度200g/Nm3 以下を0.1ppm以下にして排気します。

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オゾン発生機メンテナンス

ロキテクノ製オゾン発生機は、もちろんのこと旧日本オゾン(株)製のオゾン発生機についてもご要望に合わせ、オーバーホール、改造等の作業いたしますのでお問い合わせください。
日本電子材料株式会社製オゾン発生機のメンテナンスも開始しましたのでお問い合わせください。

オゾン発生機メンテナンス  オゾン発生機メンテナンス

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オゾン脱臭システム

オゾン脱臭システム

オゾンは脱臭の一つの有効な手法です。
お客様の条件に合わせてオゾンを中心としたトータルな脱臭プラントをご提案いたします。脱臭設備の計画立案から缶体の製作・ダクト施工まで、私たちにお任せください。

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その他オゾン処理システム

脱臭以外にもオゾンを用いた排水の脱色や工場仕込み水のオゾン水化など各種のオゾンシステムの設計、製造をいたしますのでお問い合わせください。

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