臭氧相关

臭氧的主要应用
―半导体和 FPD―

去除光刻胶

清洗方法:臭氧气体 + 温硫酸

Resist removal Cleaning method: ozone gas + hot sulfuric acid

清洁方法:臭氧气体 + 紫外线

Resist removal Cleaning method: ozone gas + UV