臭氧相關

臭氧的主要應用
-半導體和 FPD-

去除光刻膠

清洗方法:臭氧氣體 + 溫硫酸

Resist removal Cleaning method: ozone gas + hot sulfuric acid

清潔方法:臭氧氣體 + 紫外線

Resist removal Cleaning method: ozone gas + UV